芯片厂酸性废气怎么处理方法|芯片厂酸性废气处理案例
一、电子器件厂酸碱性排放物简介
集成ic创造过程中 中会出现不少酸碱性尾气,属于收入于刻蚀、清洁、传播等加工制作工艺 各个环节。这一些尾气成份更复杂,基本上属于一些些:
氟化物(HF、SiF₄等)
:最主要的位于刻蚀技术,存在强氧化性和致癌性。
氯化氢(HCl)
:种类于洁净和刻蚀操作过程,微溶于水出现偏酸悬浊液。
盐酸雾(H₂SO₄)
:有很多用途于晶圆除垢,烟粉尘中包含的细微液滴,易达成酸雾。
氮硫化物(NOx)
:部位持续高温流程会带来NOx,具促使性且易养成光耐腐蚀烟尘。
等等废水仅仅防腐蚀机器,还能对大环境带来非常严重环保问题,这样就必须经历效率外理也能摆放。
二、偏酸印刷废气外理常见问题与点
(1)加工处理突破点
物质复杂的
:不一样鑫霖环保呈现的废水部分不同大,需对於性办理。
渗透压震荡大
:研发历程中烟气废气量不稳定性,对清理机的转变性规定要求高。
金属强腐蚀性强
:强酸气体验防侵蚀地埋管和环保设备,需选购耐防侵蚀村料。
减排标准按照严格
:集成电路芯片厂一般来说需无法《大方得体被工业废气结合废气标准规范》(GB 16297-1996)等相关法律法规规范。
(2)整理指导思想
预治疗
:所采用自动喷淋系统塔或干试物理吸附剔除大颗料物和大部分咸性有害气体。
目标处理
:使用湿式干洗(碱液结合)、过滤法(化学活化炭、分子结构筛)或焚烧法(RTO)。
后治理
:除雾仪器彻底清除细小液滴,保证 标准排出。
先进化控制
:城市热力图数据监测废气排放氨水浓度,调准清理运作以的提升率。
三、经典之作案例库详细分析
案例库1:某国际上电源芯片公司氟化氢(HF)印刷废气进行处理工作
废液特征
:
注意成份:HF(酸度50-200mg/m³)、进样器SiF₄
排风量:20,000m³/h
温湿度:恒温的
正确处理策划方案
:
两极喷淋系统吸取
:
第二级使用NaOH盐溶液自动喷淋系统,消除大要素HF。
第二名级用Ca(OH)₂稀硫酸进一点洁净,合成CaF₂沉定。
除雾试验装置
:高效化弹性纤维除雾器剔除挟带液滴。
智能化把控好
:pH上线监测数据,自动的加量保证 采和利用率。
工作功能
:
HF的排放含量<1mg/m³,快速清理率>99%。
程序正常运行稳定的,维护费用低。